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原廠支援　

　　　　　　　　　　　　　　

型號 抽氣法蘭 抽氣效率for N2 壓縮比for N2
STP-iX455 ISO 100/160 300/450l/s 1*108
STP 301/301C ISO 100 650 l/s 1*108
STP 603/603C ISO 160F 300 l/s 1*108
STP 1003/1003C ISO 200F 1000 l/s 1*108
STPH 301C ISO 100 300 l/s 1*108
STPH 451C ISO 160 450 l/s 1*108
STPA 803C ISO 160F 800 l/s 1*108
STPA 1303C ISO 200F 1300 l/s 1*108
STPA 1603C ISO 200F 1600 l/s 1*108
STPA 2203C ISO 250F 2200 l/s 1*108
STP-XA2703C ISO 250F 2650 l/s 1*108
STP-XA3203C ISO 320F 3200 l/s 1*108
STP-XA4503C ISO 320F 4300 l/s 1*108

　　　 　　 　　　　　

應用領域
Wafer inspection  Electron cyclotron resonance (ECR) etch Film deposition CVD, PECVD, ECRCVD, MOCVD MBE Ion implantation source, beam line pumping end station Load lock chambers
Sputtering Diffusion Photo resist stripping Crystal/epitaxial growth Plasma etch (chlorine, fluorine and bromine chemistries) for metal(aluminium), tungsten and dielectric (oxide) and polysilicon

 


　　　　　　　　

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